ASML et Imec dévoilent un aire de jeu High NA EUV coûteux pour les fabricants de puces.

ASML et l’entreprise belge de R&D Imec ont ouvert un laboratoire donnant aux fabricants de puces accès aux derniers équipements de lithographie EUV à haute NA et aux outils associés pour accélérer le développement de leurs produits de prochaine génération. Le géant technologique néerlandais indique que l’ouverture du laboratoire de lithographie conjoint à Veldhoven, où se trouve l’entreprise, constitue une étape importante dans la préparation de l’adoption de la haute NA EUV dans les processus de fabrication de masse. Dans le cadre du plan, le laboratoire donnera aux entreprises impliquées dans la fabrication de semi-conducteurs accès à un scanner EUV haute NA (TWINSCAN EXE:5000) et aux outils de traitement et de métrologie associés, déclare ASML. Cela inclura les fabricants de puces logiques et de mémoire, ainsi que les fournisseurs de matériaux et d’équipements avancés. Il ne s’agit bien sûr pas d’un geste philanthropique; cela vise les entreprises susceptibles d’acquérir l’une de ces coûteuses machines de fabrication de puces (environ 350 millions d’euros ou 373 millions de dollars chacune), ou celles susceptibles d’être impliquées dans les services et le support les entourant. « Le laboratoire de lithographie ASML Imec High NA EUV offre une opportunité à nos clients EUV, partenaires et fournisseurs d’accéder au système EUV haute NA pour le développement de processus en attendant que leur propre système soit disponible dans leurs usines », a déclaré le président et PDG Christophe Fouquet dans un communiqué.