Canon prétend que ses machines nano-imprimantes litho sont capables de produire des puces de 5 nm.

Lorsqu’il s’agit de produire les puces les plus avancées, l’équipementier néerlandais de fabrication de semi-conducteurs ASML a le marché en main. Cependant, une nouvelle technologie de lithographie de Canon pourrait bientôt remettre cette position en question. Vendredi, le multinational japonais, mieux connu pour ses systèmes d’appareils photo haut de gamme, a annoncé une machine de nano-impression lithographique (NIL) qu’il prétend capable de produire des composants jusqu’à un noyau de processus de 5 nm. Avec une amélioration ultérieure, Canon prétend qu’elle pourrait éventuellement produire des composants de 2 nm. Nous supposons que Canon sera capable d’obtenir un rendement acceptable et un taux de défauts faible pour tout cela utile. Cela le rendrait concurrentiel avec le kit de lithographie extreme ultraviolet (EUV) d’ASML. Le fournisseur néerlandais est le seul fournisseur d’EUV utilisé dans la fabrication de puces inférieures à 7 nm. Peut-être plus tentant, la technologie NIL de Canon – qui ne dépend pas d’optiques ou de miroirs complexes utilisés dans les applications EUV – pourrait contourner les restrictions américaines existantes sur l’exportation d’équipements de fabrication de puces haut de gamme vers la Chine. Comme vous le savez peut-être, les États-Unis ont pressé leurs alliés en Corée, au Japon et aux Pays-Bas de suivre son exemple et d’interdire ou de limiter la vente de la plupart des machines à ultraviolets profonds (DUV) et EUV à la Chine. La technologie d’empreinte nanométrique de Canon fonctionne en appuyant physiquement sur un masque imprimé avec un design de circuit sur la couche de résine du substrat de puce comme un timbre.